紫外光刻是指通过匀胶、曝光、显影等一系列工艺步骤，将晶圆表面的特定部分除去而留下带微图形结构的薄膜，通过光刻工艺步骤，最终在晶圆上保留的是特征图形部分。光刻技术是半导体制造过程的中心，制造工艺中晶圆片需要多次经过光刻工艺，光刻工艺的好坏很大程度上决定着半导体器件的图形分辨率，成品率以及质量，因此，光刻被认为是半导体制造行业中最关键的步骤。

　　紫外光刻工艺看似简单，但在实际操作过程中，任何一个微小的环节出现误差就有可能导致图形的瑕疵、失真甚至损坏。下面为大家列举一些紫外光刻中脚状图形问题的解决办法。

　　脚状图形：显影后图形底部边缘有很明显的光刻胶残留，这就是脚状图形。

　　出现原因：正性光刻胶的感光剂是一种光敏化合物，最常见的是重氮萘醌（DNQ），在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，能够降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，使它在显影液中溶解度很高。但如果基片表面残留有碱性物质，就会使曝光后产生的羧酸与碱性物质发生中和反应，生成不溶于显影液的物质，从而导致显影后出现脚状图形。

　　解决方法：在涂覆光刻胶之前，硅片表面要清洗干净，防止基底上有碱性物质的残余。其次，要妥善保存光刻胶，不要让其长时间暴露在碱性环境中。