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DLW-RD双光子激光直写微纳3D光刻设备
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更新时间:2022-04-12  |  阅读:1423

详情介绍

魔技纳米双光子激光直写微纳3D光刻设备DLW-RD

DLW-RD桌面级三维激光直写设备.png

魔技纳米双光子激光直写微纳3D光刻设备DLW-RD

产品优势:

功能齐全的紧凑型设计

120纳米的三维加工精度

适用于多种光敏材料

一键快速成型,适合科学研究

企业介绍:

     魔技纳米科技有限公司成立于2017年,是三维微纳制造领域集研发、生产、销售、服务于一体的高新技术企业。核心研发团队拥有12年以上超快激光三维加工设备研发经验,致力打造拥有自主知识产权的超稳定纳米级三维激光直写制造系统,提供集先进光学系统、控制系统、整机设计于一体的光机电系统完整技术方案。

     深入生物医疗、光电通信、新材料、微纳器件等多个产业应用领域,拥有应用于多行业场景的成熟加工工艺。可定制研发适配各产业领域生产需求的个性化设备和产品,突破生物制药、传感、光电芯片、超材料等领域从科研到工业生产的屏障,将纳米级制造精度和大范围生产结合,提供针对精密智造领域的整套专业解决方案。

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公众号:魔技纳米


魔技纳米双光子激光直写微纳3D光刻设备DLW-RD

产品技术参数

技术原理

多光子聚合

三维最小加工线宽

160 nm *

最大加工高度

25 mm *

最大加工尺寸

50 mm x 50 mm

表面粗糙度Ra

≤50 nm *

扫描速度

500 mm/s *

*与物镜及加工材料等有关

































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